Titan是一套用于半導體生產的十分緊湊、全自動化、帶預真空室的等離子系統。
Titan具有反應離子刻蝕(RIE)配置、高密度電感耦合等離子沉積(HDICP)或等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)配置。可對單個基片或帶承片盤的基片(3”-300mm尺寸)進行處理。它還具有多尺寸批處理功能。價格適宜且占地面積小。
刻蝕應用： 砷化鎵、砷化鋁鎵、氮化鎵、磷化銦、鋁、硅化物、鉻以及其他要求腐蝕性和非腐蝕性化學刻蝕的材料。
沉積應用： 二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各種材料。